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偏光专用设计
P 系列针对偏光观察优化,降低物镜自身应力与双折射对图像的影响。
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透射 / 反射兼顾
适配 LV100N POL / Ci-POL 等偏光显微镜配置,可用于透明与不透明样品。
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Plan Fluor 光学校正
平场 + 半复消色差校正,兼顾视场均匀性、分辨率和色差控制。
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各向异性材料观察
适用于岩矿薄片、晶体、薄膜、聚合物、半导体材料及金属组织。
EPI P
TU Plan Fluor EPI P — 偏光专用 Plan Fluor 物镜
TU Plan Fluor EPI P 是 Nikon CFI60-2 工业 / 偏光显微系统中的偏光观察物镜系列。EPI P 中的 P 指 Polarizing(偏光专用),用于在正交偏光、单偏光、反射偏光等观察方式中减少物镜本身造成的偏振伪影;Plan Fluor 结构提供较好的平场、色差与亮度表现。
对应官方系列 TU Plan Fluor EPI P Series Polarizing Universal Plan Fluor
| 型号 | 货号 | 倍率 | NA | WD (mm) | 理论焦距 (mm) | 理论分辨率 (µm) | 理论焦深 (µm) | 推荐用途 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| CFI TU Plan Fluor EPI P 5× | MUE13050 | 5× | 0.15 | 23.5 | 40.0 | 2.24 | 12.22 | 低倍全貌观察、薄片定位、大视场偏光检查 |
| CFI TU Plan Fluor EPI P 10× | MUE13100 | 10× | 0.30 | 17.5 | 20.0 | 1.12 | 3.06 | 常规偏光巡检、矿物薄片、颗粒与晶体形貌 |
| CFI TU Plan Fluor EPI P 20× | MUE13200 | 20× | 0.45 | 4.5 | 10.0 | 0.75 | 1.36 | 纹理、晶粒、薄膜应力、材料组织常用倍率 |
| CFI TU Plan Fluor EPI P 50× | MUE13500 | 50× | 0.80 | 1.0 | 4.0 | 0.42 | 0.43 | 高分辨偏光细节、晶界、应力条纹、微结构观察 |
| CFI TU Plan Fluor EPI P 100× | MUE13900 | 100× | 0.90 | 1.0 | 2.0 | 0.37 | 0.34 | 最高分辨偏光观察、小晶粒、微区缺陷与精细结构 |
说明: 表中“理论焦距 / 理论分辨率 / 理论焦深”为基于 200 mm 管镜与 550 nm 波长的工程换算值,用于横向比较。实际分辨率、对比度和偏光效果还会受到照明、偏振片 / 检偏器、样品制备、相机像元、光路校准等因素影响。
倍率选型建议
偏光观察不是单纯追求高倍率,而是需要在视场范围、数值孔径、工作距离和样品尺度之间取平衡。
| 倍率 | 视场特点 | 分辨能力 | 适合样品 / 任务 | 注意事项 |
|---|---|---|---|---|
| 5× | 最大视场,WD 最高 | 低 | 岩矿薄片整体结构、晶区分布、偏光图案快速定位 | 不适合微细晶粒或缺陷确认 |
| 10× | 视场与细节平衡 | 中等 | 常规偏光观察、薄片巡检、颗粒形貌、透明材料初筛 | 适合作为默认观察倍率 |
| 20× | 局部区域细化 | 较高 | 晶粒边界、薄膜应力、聚合物取向、金属组织纹理 | 兼顾 WD 和分辨率,实用性最高 |
| 50× | 小视场 | 高 | 微小晶区、裂纹、缺陷、应力条纹、微区偏光变化 | WD 仅 1.0 mm,需注意碰样风险 |
| 100× | 最小视场 | 最高 | 微区结构、亚微米级纹理、高 NA 偏光细节确认 | 对样品平整度、调焦、偏振器对准要求最高 |
EPI P、普通 EPI 与 BD 系列怎么区分
偏光物镜的核心不是“倍率更高”,而是物镜本身要尽量不引入额外偏振干扰。
| 系列 | 主要用途 | 光路 / 观察方式 | 选型判断 |
|---|---|---|---|
| TU Plan Fluor EPI P | 偏光显微观察;矿物、晶体、薄膜应力、各向异性材料 | 偏光优化 EPI 系列;适合透射 / 反射偏光配置 | 做偏光观察优先选该系列 |
| TU Plan Fluor EPI | 普通反射明场、工业表面观察、材料检测 | 纯明场 EPI;无偏光专用优化 | 常规明场成像可选;偏光严谨性不如 EPI P |
| TU Plan Fluor BD | 明场 / 暗场切换,表面划痕、颗粒、边缘散射观察 | 明暗场双用途,内置暗场照明光路 | 需要暗场时选 BD;偏光专用观察仍优先 EPI P |
参考信息与命名说明
CFI60-2 系统说明
Tube lens 焦距:200 mm
Parfocal distance:60 mm
无限远校正 CFI 光学系统
适配 Nikon 工业 / 偏光显微镜系统
命名解读
TU:CFI60-2 工业系列前缀
Plan:平场校正
Fluor:半复消色差 / 荧光级校正
EPI:反射照明物镜体系
P:Polarizing,偏光观察专用
理论参数说明
理论焦距:f ≈ 200 / 倍率
理论分辨率:R ≈ 0.61×550nm / NA
理论焦深:DOF ≈ 550nm / (2×NA²)
以上为工程换算值,不等同官方成像保证值。
数据来源说明
Nikon CFI60-2 Objective Series 官方发布信息:TU Plan Fluor EPI P 为偏光专用 Plan Fluor(Semi-apochromat)系列,覆盖 5×、10×、20×、50×、100×。
Nikon Industrial Metrology Objective Lenses 官方页面 / Product Explorer:用于核对倍率、NA、工作距离与部分货号信息。
页面中的中文应用描述、选型建议和理论换算参数为网页展示整理内容,具体采购型号和最新规格应以 Nikon 最新官方资料为准。