Nikon 超长工作距离物镜
面向工业显微镜、材料检测与大尺寸样品观察的 Nikon 长工作距离与超长工作距离物镜整理页。页面覆盖 TU Plan EPI ELWD、T Plan EPI SLWD 与 TU Plan BD ELWD 三组工业物镜，适合在夹具、台阶、封装、金属表面及厚样品上保留充足操作空间，同时兼顾分辨率、NA 与表面缺陷观察能力。
当样品表面存在高低差、夹具遮挡或厚基底时，SLWD 系列可提供更大的镜头到样品间距。
适合在晶圆、封装器件、陶瓷基板和微结构表面进行明场高分辨观察与缺陷复核。
用于刀痕、划伤、腐蚀、涂层、氧化层和材料截面观察，兼顾较高 NA 与较大工作空间。
若需要强化微粒、划痕、边缘散射和微小缺陷，优先选择 TU Plan BD ELWD 明/暗场版本。
T Plan EPI SLWD — 工业超长工作距离明场物镜
T Plan EPI SLWD 属于 Super-long Working Distance Plan 系列，重点是最大化工作距离和样品操作空间。10X 型 WD 达 37 mm，20X 型 WD 达 30 mm，适合高台阶样品、带治具观察、厚样品表面、封装器件与机械零部件表面检测。相较 ELWD，SLWD 的 NA 更低，但留出的安全空间明显更大。
| 型号系列 | 倍率 | NA | WD (mm) | 理论焦距 (mm) | 理论分辨率 (μm) | 理论焦深 (μm) | 观察方式 | 推荐用途 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| T Plan EPI SLWD | 10X | 0.20 | 37.00 | 20.0 | 1.68 | 6.88 | 明场 | 最高工作空间、厚样品低倍定位 |
| T Plan EPI SLWD | 20X | 0.30 | 30.00 | 10.0 | 1.12 | 3.06 | 明场 | 高台阶样品、封装器件观察 |
| T Plan EPI SLWD | 50X | 0.40 | 22.00 | 4.0 | 0.84 | 1.72 | 明场 | 较高倍率下仍需大安全距离 |
| T Plan EPI SLWD | 100X | 0.60 | 10.00 | 2.0 | 0.56 | 0.76 | 明场 | 高倍长工作距离表面复核 |
TU Plan EPI ELWD — 长工作距离通用平场明场物镜
TU Plan EPI ELWD 是 Long Working Distance Universal Plan 系列，定位是在较长 WD 与更高 NA 之间取得平衡。20X / 50X / 100X 覆盖中高倍率工业观察，相比 SLWD 分辨率更强，适合半导体、电子元件、金属材料与微结构表面常规明场检测。
| 型号系列 | 倍率 | NA | WD (mm) | 理论焦距 (mm) | 理论分辨率 (μm) | 理论焦深 (μm) | 观察方式 | 推荐用途 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| TU Plan EPI ELWD | 20X | 0.40 | 19.00 | 10.0 | 0.84 | 1.72 | 明场 | 中倍率长 WD 通用观察 |
| TU Plan EPI ELWD | 50X | 0.60 | 11.00 | 4.0 | 0.56 | 0.76 | 明场 | 电子元件、金属表面细节 |
| TU Plan EPI ELWD | 100X | 0.80 | 4.50 | 2.0 | 0.42 | 0.43 | 明场 | 高倍高 NA 表面细节复核 |
TU Plan BD ELWD — 明场 / 暗场长工作距离物镜
TU Plan BD ELWD 保持 ELWD 同倍率 NA 与 WD 参数，同时支持明场 / 暗场观察。暗场对微小颗粒、划伤、边缘散射、裂纹和表面缺陷更敏感，适合晶圆、金属镜面、镀膜层和精密加工件的缺陷增强检测。
| 型号系列 | 倍率 | NA | WD (mm) | 理论焦距 (mm) | 理论分辨率 (μm) | 理论焦深 (μm) | 观察方式 | 推荐用途 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| TU Plan BD ELWD | 20X | 0.40 | 19.00 | 10.0 | 0.84 | 1.72 | 明场 / 暗场 | 较大视野缺陷筛查 |
| TU Plan BD ELWD | 50X | 0.60 | 11.00 | 4.0 | 0.56 | 0.76 | 明场 / 暗场 | 划伤、颗粒、边缘散射增强 |
| TU Plan BD ELWD | 100X | 0.80 | 4.50 | 2.0 | 0.42 | 0.43 | 明场 / 暗场 | 高倍表面缺陷复核 |
三类长工作距离物镜快速选型
根据样品高度、缺陷类型、NA 与观察方式快速定位系列
| 系列 | 核心定位 | 倍率覆盖 | 最大 WD | 最高 NA | 观察方式 | 优先选择场景 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| T Plan EPI SLWD | 超长工作距离 | 10X–100X | 37.00 mm | 0.60 | 明场 | 高台阶、带夹具、厚样品、避免碰撞优先 |
| TU Plan EPI ELWD | 长 WD + 较高 NA | 20X–100X | 19.00 mm | 0.80 | 明场 | 常规工业高分辨表面观察 |
| TU Plan BD ELWD | 明 / 暗场缺陷检测 | 20X–100X | 19.00 mm | 0.80 | 明场 / 暗场 | 划伤、颗粒、裂纹、边缘散射缺陷增强 |
参考信息 — 工作距离、NA 与理论参数说明
WD 是物镜前端到样品表面的距离。数值越大，越适合厚样品、夹具遮挡、高台阶或需要在镜头下方保留操作空间的检测场景。
NA 越高，理论分辨率越好、图像越亮，但工作距离通常会缩短。SLWD 与 ELWD 的核心差别就是 WD 与 NA 的取舍。
理论焦距按 200 / 倍率估算；理论分辨率按 0.61 × 0.55 μm / NA；理论焦深按 0.55 μm / (2 × NA²)。仅用于横向比较。
