Nikon 偏光物镜

南京索谱光电供应Nikon偏光物镜。采用彻底消除内部应力的光学设计,完美适配岩石矿物鉴定、金相分析及材料应力偏光检测,欢迎咨询。
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Nikon 偏光物镜
NK
Nikon
POLARIZING OBJECTIVES — CFI60-2 SERIES
TU PLAN FLUOR EPI P / POLARIZING UNIVERSAL PLAN FLUOR

Nikon 偏光物镜

Nikon CFI60-2 TU Plan Fluor EPI P 偏光专用物镜系列整理页面。该系列面向透射 / 反射偏光观察,覆盖 5×、10×、20×、50×、100× 五个常用倍率,兼具 Plan Fluor 级平场与半复消色差校正,适合矿物岩相、晶体材料、薄膜应力、半导体材料、金属组织和各类各向异性样品观察。

✦ 偏光观察专用 P 系列  ✦ 透射 / 反射偏光兼顾 ✦ CFI60-2 无限远光学系统  ✦ 无盖玻片反射照明 / 偏光检测
系列参数速览
23.5
最大 WD (mm)
0.90
最高 NA
100×
最高倍率
5
标准倍率数量
系统:CFI60-2 / Tube lens 200 mm
Parfocal:60 mm(标准)
系列:TU Plan Fluor EPI P(Polarizing)
🔍
偏光专用设计
P 系列针对偏光观察优化,降低物镜自身应力与双折射对图像的影响。
透射 / 反射兼顾
适配 LV100N POL / Ci-POL 等偏光显微镜配置,可用于透明与不透明样品。
Plan Fluor 光学校正
平场 + 半复消色差校正,兼顾视场均匀性、分辨率和色差控制。
各向异性材料观察
适用于岩矿薄片、晶体、薄膜、聚合物、半导体材料及金属组织。
EPI P

TU Plan Fluor EPI P — 偏光专用 Plan Fluor 物镜

TU Plan Fluor EPI P 是 Nikon CFI60-2 工业 / 偏光显微系统中的偏光观察物镜系列。EPI P 中的 P 指 Polarizing(偏光专用),用于在正交偏光、单偏光、反射偏光等观察方式中减少物镜本身造成的偏振伪影;Plan Fluor 结构提供较好的平场、色差与亮度表现。

对应官方系列                    TU Plan Fluor EPI P Series                    Polarizing Universal Plan Fluor
型号货号倍率NAWD (mm)理论焦距 (mm)理论分辨率 (µm)理论焦深 (µm)推荐用途
CFI TU Plan Fluor EPI P 5×MUE130500.1523.540.02.2412.22低倍全貌观察、薄片定位、大视场偏光检查
CFI TU Plan Fluor EPI P 10×MUE1310010×0.3017.520.01.123.06常规偏光巡检、矿物薄片、颗粒与晶体形貌
CFI TU Plan Fluor EPI P 20×MUE1320020×0.454.510.00.751.36纹理、晶粒、薄膜应力、材料组织常用倍率
CFI TU Plan Fluor EPI P 50×MUE1350050×0.801.04.00.420.43高分辨偏光细节、晶界、应力条纹、微结构观察
CFI TU Plan Fluor EPI P 100×MUE13900100×0.901.02.00.370.34最高分辨偏光观察、小晶粒、微区缺陷与精细结构
说明: 表中“理论焦距 / 理论分辨率 / 理论焦深”为基于 200 mm 管镜与 550 nm 波长的工程换算值,用于横向比较。实际分辨率、对比度和偏光效果还会受到照明、偏振片 / 检偏器、样品制备、相机像元、光路校准等因素影响。

倍率选型建议

偏光观察不是单纯追求高倍率,而是需要在视场范围、数值孔径、工作距离和样品尺度之间取平衡。

倍率视场特点分辨能力适合样品 / 任务注意事项
最大视场,WD 最高岩矿薄片整体结构、晶区分布、偏光图案快速定位不适合微细晶粒或缺陷确认
10×视场与细节平衡中等常规偏光观察、薄片巡检、颗粒形貌、透明材料初筛适合作为默认观察倍率
20×局部区域细化较高晶粒边界、薄膜应力、聚合物取向、金属组织纹理兼顾 WD 和分辨率,实用性最高
50×小视场微小晶区、裂纹、缺陷、应力条纹、微区偏光变化WD 仅 1.0 mm,需注意碰样风险
100×最小视场最高微区结构、亚微米级纹理、高 NA 偏光细节确认对样品平整度、调焦、偏振器对准要求最高

EPI P、普通 EPI 与 BD 系列怎么区分

偏光物镜的核心不是“倍率更高”,而是物镜本身要尽量不引入额外偏振干扰。

系列主要用途光路 / 观察方式选型判断
TU Plan Fluor EPI P偏光显微观察;矿物、晶体、薄膜应力、各向异性材料偏光优化 EPI 系列;适合透射 / 反射偏光配置做偏光观察优先选该系列
TU Plan Fluor EPI普通反射明场、工业表面观察、材料检测纯明场 EPI;无偏光专用优化常规明场成像可选;偏光严谨性不如 EPI P
TU Plan Fluor BD明场 / 暗场切换,表面划痕、颗粒、边缘散射观察明暗场双用途,内置暗场照明光路需要暗场时选 BD;偏光专用观察仍优先 EPI P

参考信息与命名说明

CFI60-2 系统说明
Tube lens 焦距:200 mm
Parfocal distance:60 mm
无限远校正 CFI 光学系统
适配 Nikon 工业 / 偏光显微镜系统
命名解读
TU:CFI60-2 工业系列前缀
Plan:平场校正
Fluor:半复消色差 / 荧光级校正
EPI:反射照明物镜体系
P:Polarizing,偏光观察专用
理论参数说明
理论焦距:f ≈ 200 / 倍率
理论分辨率:R ≈ 0.61×550nm / NA
理论焦深:DOF ≈ 550nm / (2×NA²)
以上为工程换算值,不等同官方成像保证值。
数据来源说明
Nikon CFI60-2 Objective Series 官方发布信息:TU Plan Fluor EPI P 为偏光专用 Plan Fluor(Semi-apochromat)系列,覆盖 5×、10×、20×、50×、100×。
Nikon Industrial Metrology Objective Lenses 官方页面 / Product Explorer:用于核对倍率、NA、工作距离与部分货号信息。
页面中的中文应用描述、选型建议和理论换算参数为网页展示整理内容,具体采购型号和最新规格应以 Nikon 最新官方资料为准。
数据整理依据:Nikon CFI60-2 Objective Series 官方发布信息、Nikon Industrial Metrology Objective Lenses 页面、Nikon Product Explorer。
       “理论焦距 / 理论分辨率 / 理论焦深”为工程换算值,用于横向比较;具体采购、货号与配置请以 Nikon 最新官方页面和实际供货资料为准。