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高台阶 / 厚样品观察
样品存在高低差、夹具遮挡或厚基底时，SLWD 系列可提供更大的镜头到样品间距
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半导体封装 / 晶圆检测
晶圆、封装器件、陶瓷基板和微结构表面观察，兼顾明场分辨率与较大操作空间
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金属材料 / 加工表面
用于刀痕、划伤、腐蚀、涂层、氧化层和材料截面观察，适合工业现场复核
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暗场缺陷增强
需要强化微粒、划痕、边缘散射和细微缺陷时，优先选择 TU Plan BD ELWD
超长工作距离
T Plan EPI SLWD — 工业超长工作距离明场物镜
T Plan EPI SLWD 属于 Super-long Working Distance Plan 系列，重点是最大化工作距离和样品操作空间。10X 型 WD 达 37 mm，20X 型 WD 达 30 mm，适合高台阶样品、带治具观察、厚样品表面、封装器件与机械零部件表面检测。相较 ELWD，SLWD 的 NA 更低，但安全空间明显更大。
4
款倍率
37
最大 WD (mm)
0.60
最高 NA
| 型号系列 | 倍率 | NA | WD (mm) | 理论焦距 (mm) | 理论分辨率 (μm) | 理论焦深 (μm) | 观察方式 | 推荐用途 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| T Plan EPI SLWD | 10X | 0.20 | 37.00 | 20.0 | 1.68 | 6.88 | 明场 | 最高工作空间、厚样品低倍定位 |
| T Plan EPI SLWD | 20X | 0.30 | 30.00 | 10.0 | 1.12 | 3.06 | 明场 | 高台阶样品、封装器件观察 |
| T Plan EPI SLWD | 50X | 0.40 | 22.00 | 4.0 | 0.84 | 1.72 | 明场 | 较高倍率下仍需大安全距离 |
| T Plan EPI SLWD | 100X | 0.60 | 10.00 | 2.0 | 0.56 | 0.76 | 明场 | 高倍长工作距离表面复核 |
解读： SLWD 的重点不是最高 NA，而是镜头前端到样品之间的安全距离。若样品高度不确定、夹具占用空间较大或需要避免碰撞，优先从该系列开始选型。
长工作距离
TU Plan EPI ELWD — 长工作距离通用平场明场物镜
TU Plan EPI ELWD 是 Long Working Distance Universal Plan 系列，定位是在较长 WD 与更高 NA 之间取得平衡。20X / 50X / 100X 覆盖中高倍率工业观察，相比 SLWD 分辨率更强，适合半导体、电子元件、金属材料与微结构表面常规明场检测。
3
款倍率
19
最大 WD (mm)
0.80
最高 NA
| 型号系列 | 倍率 | NA | WD (mm) | 理论焦距 (mm) | 理论分辨率 (μm) | 理论焦深 (μm) | 观察方式 | 推荐用途 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| TU Plan EPI ELWD | 20X | 0.40 | 19.00 | 10.0 | 0.84 | 1.72 | 明场 | 中倍率长 WD 通用观察 |
| TU Plan EPI ELWD | 50X | 0.60 | 11.00 | 4.0 | 0.56 | 0.76 | 明场 | 电子元件、金属表面细节 |
| TU Plan EPI ELWD | 100X | 0.80 | 4.50 | 2.0 | 0.42 | 0.43 | 明场 | 高倍高 NA 表面细节复核 |
解读： ELWD 适合在样品高度变化可控的条件下追求更高分辨率。100X / NA 0.80 在长工作距离类别中兼顾较高解析力，但 4.5 mm WD 仍需注意防碰样。
明 / 暗场
TU Plan BD ELWD — 明场 / 暗场长工作距离物镜
TU Plan BD ELWD 保持 ELWD 同倍率 NA 与 WD 参数，同时支持明场 / 暗场观察。暗场对微小颗粒、划伤、边缘散射、裂纹和表面缺陷更敏感，适合晶圆、金属镜面、镀膜层和精密加工件的缺陷增强检测。
BF/DF
明暗场兼容
19
最大 WD (mm)
0.80
最高 NA
| 型号系列 | 倍率 | NA | WD (mm) | 理论焦距 (mm) | 理论分辨率 (μm) | 理论焦深 (μm) | 观察方式 | 推荐用途 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| TU Plan BD ELWD | 20X | 0.40 | 19.00 | 10.0 | 0.84 | 1.72 | 明场 / 暗场 | 较大视野缺陷筛查 |
| TU Plan BD ELWD | 50X | 0.60 | 11.00 | 4.0 | 0.56 | 0.76 | 明场 / 暗场 | 划伤、颗粒、边缘散射增强 |
| TU Plan BD ELWD | 100X | 0.80 | 4.50 | 2.0 | 0.42 | 0.43 | 明场 / 暗场 | 高倍表面缺陷复核 |
解读： 若只做几何轮廓、表面纹理和常规明场观察，EPI ELWD 已足够；若需要突出微小散射缺陷，建议选择 BD ELWD 并确认显微镜照明系统支持暗场光路。
三类长工作距离物镜快速选型
| 系列 | 核心定位 | 倍率覆盖 | 最大 WD | 最高 NA | 观察方式 | 优先选择场景 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| T Plan EPI SLWD | 超长工作距离 | 10X–100X | 37.00 mm | 0.60 | 明场 | 高台阶、带夹具、厚样品、避免碰撞优先 |
| TU Plan EPI ELWD | 长 WD + 较高 NA | 20X–100X | 19.00 mm | 0.80 | 明场 | 常规工业高分辨表面观察 |
| TU Plan BD ELWD | 明 / 暗场缺陷检测 | 20X–100X | 19.00 mm | 0.80 | 明场 / 暗场 | 划伤、颗粒、裂纹、边缘散射缺陷增强 |
空间优先选 SLWD；分辨率优先选 ELWD；缺陷散射增强选 BD ELWD。若现场样品高度差较大，建议先确认最高点与物镜前端的安全距离，再决定倍率与系列。
参考信息 — 工作距离、NA 与理论参数说明
SLWD 适用场景
高台阶样品、夹具遮挡
厚样品、机械零部件
需要最大安全距离
低倍快速定位与复核
ELWD 适用场景
半导体与电子元件
金属、陶瓷、涂层表面
较高 NA 与较长 WD 平衡
常规工业明场检测
BD ELWD 适用场景
明场 / 暗场切换观察
划伤、颗粒、裂纹增强
边缘散射与微缺陷复核
需确认显微镜暗场光路
工作距离与 NA 的取舍
WD 越长，越适合厚样品与复杂夹具
NA 越高，理论分辨率越好、图像越亮
SLWD 偏重安全距离，ELWD 偏重解析能力
高倍观察需提前确认样品最高点安全距离
理论参数说明
理论焦距：f ≈ 200 / 倍率
理论分辨率：R ≈ 0.61 × 550 nm / NA
理论焦深：DOF ≈ 550 nm / (2 × NA²)
以上为工程换算值，仅用于横向比较
