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厚底培养皿 / 多孔板
优先选择 S Plan Fluor LWD 20XC 或 LWD ADM 20XC，适合塑料底器皿、药筛与高内涵成像。
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大样品 / 厚容器
S Plan Fluor ELWD 提供 0–2.0 mm 容器厚度补偿，适合厚容器、插板和培养瓶。
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类器官 / 3D 高精度成像
Plan Apo LWD Lambda S 水浸系列适合 spheroid、organoid 与共聚焦 / 多光子成像。
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反射 / 偏光 / 材料表面
TU Plan Fluor EPI P 适合金相、晶圆、材料表面和大样品反射观察。
LWD
S Plan Fluor LWD — 厚塑料底培养容器友好型
该系列定位为适合 stem cell、drug design 与高内涵应用的塑料兼容长工作距离物镜。公开重点型号为 LWD 20XC 与 LWD ADM 20XC，两者都具备高 NA、校正环和较大的视场。
2
款型号
0.70
NA
1.8
补偿范围
| 型号 | 当前型号代码 | 倍率 | N.A. | W.D. (mm) | 盖玻片 / 容器厚度 (mm) | 浸液 | 补偿方式 | 理论焦距 f (mm) | 理论分辨率 (µm) | 理论焦深 (µm) | 观察方式 | 适配场景 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| CFI S Plan Fluor LWD 20XC | MRH08250 | 20X | 0.70 | 2.30–1.30 | 0–1.80 | Air | 0–1.8mm 校正环 | 10.0 | 0.48 | 0.56 | BF / DF / DIC / POL / FL(vis, UV) | 厚底塑料培养皿、高内涵、类器官芯片 |
| CFI S Plan Fluor LWD ADM 20XC | MRH48250 | 20X | 0.70 | 2.30–1.30 | 0–1.80 | Air | 0–1.8mm 校正环 | 10.0 | 0.48 | 0.56 | BF / DF / PH2 / FL(vis, UV) | 相差观察、细胞筛选、药筛 |
解读： 这一组不是单纯追求最长 WD，而是“高 NA + 可穿透厚塑料底”的平衡型 LWD，适合做成器皿兼容成像物镜专题。
ELWD
S Plan Fluor ELWD — Nikon 生物方向代表性超长工作距离系列
该系列具有从近紫外到近红外的高透过率，并通过 ELWD 结构适配更大样品与不同厚度的培养器皿。公开版本覆盖标准 Brightfield 型、Apodized Phase 型，以及 NAMC 型。
8
款型号
8.2
最大 WD
NAMC
扩展观察
STANDARD
标准 Brightfield / Fluorescence / DIC 版本
| 型号 | 当前型号代码 | 倍率 | N.A. | W.D. (mm) | 盖玻片 / 容器厚度 (mm) | 浸液 | 补偿方式 | 理论焦距 f (mm) | 理论分辨率 (µm) | 理论焦深 (µm) | 观察方式 | 适配场景 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| CFI S Plan Fluor ELWD 20XC | MRH08230 | 20X | 0.45 | 8.20–6.90 | 0–2.00 | Air | 0–2.0mm 校正环 | 10.0 | 0.75 | 1.36 | BF / DF / DIC / POL / FL(vis, UV) | 厚容器、插板、培养瓶 |
| CFI S Plan Fluor ELWD 40XC | MRH08430 | 40X | 0.60 | 3.60–2.80 | 0–2.00 | Air | 0–2.0mm 校正环 | 5.0 | 0.56 | 0.76 | BF / DF / DIC / POL / FL(vis, UV) | 组织培养、钙成像 |
| CFI S Plan Fluor ELWD 60XC | MRH08630 | 60X | 0.70 | 2.60–1.80 | 0.10–1.30 | Air | 0.1–1.3mm 校正环 | 3.3 | 0.48 | 0.56 | BF / DF / DIC / POL / FL(vis, UV) | 高倍率活细胞观察 |
PHASE
Apodized Phase Contrast 版本
| 型号 | 当前型号代码 | 倍率 | N.A. | W.D. (mm) | 盖玻片 / 容器厚度 (mm) | 浸液 | 补偿方式 | 理论焦距 f (mm) | 理论分辨率 (µm) | 理论焦深 (µm) | 观察方式 | 适配场景 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| CFI S Plan Fluor ELWD ADM 20XC | MRH48230 | 20X | 0.45 | 8.20–6.90 | 0–2.00 | Air | 0–2.0mm 校正环 | 10.0 | 0.75 | 1.36 | BF / DF / PH1 / FL(vis, UV) | 相差 + 厚底容器 |
| CFI S Plan Fluor ELWD ADM 40XC | MRH48430 | 40X | 0.60 | 3.60–2.80 | 0–2.00 | Air | 0–2.0mm 校正环 | 5.0 | 0.56 | 0.76 | BF / DF / PH2 / FL(vis, UV) | 相差 + 组织培养 |
| CFI S Plan Fluor ELWD ADL 60XC | MRH48600 | 60X | 0.70 | 2.60–1.80 | 0.10–1.30 | Air | 0.1–1.3mm 校正环 | 3.3 | 0.48 | 0.56 | BF / DF / PH2 / FL(vis, UV) | 低光晕相差、厚样品 |
NAMC
Advanced Modulation Contrast 版本
| 型号 | 当前型号代码 | 倍率 | N.A. | W.D. (mm) | 盖玻片 / 容器厚度 (mm) | 浸液 | 补偿方式 | 理论焦距 f (mm) | 理论分辨率 (µm) | 理论焦深 (µm) | 观察方式 | 适配场景 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 20XC | MRH68200 | 20X | 0.45 | 8.20–6.90 | 0–2.00 | Air | 0–2.0mm 校正环 | 10.0 | 0.75 | 1.36 | NAMC / BF / FL(vis, UV) | ICSI / 微注射 / 无色透明样品 |
| CFI S Plan Fluor ELWD NAMC 40XC | MRH68400 | 40X | 0.60 | 3.60–2.80 | 0–2.00 | Air | 0–2.0mm 校正环 | 5.0 | 0.56 | 0.76 | NAMC / BF / FL(vis, UV) | 厚塑料器皿中的高浮雕观察 |
解读： ELWD 适合拆成标准型、相差型、NAMC 型三个子方向，逻辑比单纯按倍率更清晰。
PLAN APO LWD
CFI Plan Apo LWD Lambda S — 面向 3D 生物样品的高阶水浸长 WD
20XC WI / 40XC WI 两款高阶水浸型号面向 spheroid、organoid 等 biomimetic 3D samples 的高精度成像，强调宽视场、高平坦性和低畸变。
2
款型号
1.15
最高 NA
| 型号 | 当前型号代码 | 倍率 | N.A. | W.D. (mm) | 盖玻片 / 容器厚度 (mm) | 浸液 | 补偿方式 | 理论焦距 f (mm) | 理论分辨率 (µm) | 理论焦深 (µm) | 观察方式 | 适配场景 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| CFI Plan Apo LWD Lambda S 20XC WI | MRD77205 | 20X | 0.95 | 0.93 | 0.15–0.23 | Water | 水浸 / 校正适配 | 10.0 | 0.35 | 0.30 | BF / DF / DIC / POL / FL(vis, NIR) | 类器官、球体、3D 生物样品 |
| CFI Plan Apo LWD Lambda S 40XC WI | MRD77415 | 40X | 1.15 | 0.63 | 0.15–0.19 | Water | 水浸 / 校正适配 | 5.0 | 0.29 | 0.21 | BF / DF / DIC / EXT PH3 / POL / FL(vis, UV) | 高分辨 3D / 共聚焦 / 多光子 |
解读： 这组代表 Nikon 当前“长工作距离 + 高 NA + 宽视场 + 水浸 3D 成像”的高端方向，适合单列为高阶长工作距离物镜。
EPI / POL
CFI TU Plan Fluor EPI P — 反射 / 偏光方向的长工作距离补充线
CFI TU Plan Fluor EPI P 系列适用于 episcopic illumination，5X / 10X 的 WD 非常突出，适合材料、晶圆与反射观察方向。
23.5
最长 WD
0.80
最高 NA
| 型号 | 当前型号代码 | 倍率 | N.A. | W.D. (mm) | 盖玻片 / 容器厚度 (mm) | 浸液 | 补偿方式 | 理论焦距 f (mm) | 理论分辨率 (µm) | 理论焦深 (µm) | 观察方式 | 适配场景 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| CFI TU Plan Fluor EPI P 5X | — | 5X | 0.15 | 23.50 | 0 | Air | 无盖玻片 | 40.0 | 2.24 | 12.22 | EPI / POL | 反射观察、大样品 |
| CFI TU Plan Fluor EPI P 10X | — | 10X | 0.30 | 17.50 | 0 | Air | 无盖玻片 | 20.0 | 1.12 | 3.06 | EPI / POL | 反射明场、微电极/芯片 |
| CFI TU Plan Fluor EPI P 20X | — | 20X | 0.45 | 4.50 | 0 | Air | 无盖玻片 | 10.0 | 0.75 | 1.36 | EPI / POL | 晶圆/材料表面 |
| CFI TU Plan Fluor EPI P 50X | — | 50X | 0.80 | 1.00 | 0 | Air | 无盖玻片 | 4.0 | 0.42 | 0.43 | EPI / POL | 反射高倍率观察 |
解读： 若网站后续覆盖金相 / 偏光 / 反射观察物镜，这组适合单列，尤其 5X 与 10X 更适合“大样品、非接触、反射照明”的卖点表达。
参考信息 — 命名、理论参数与网站分类建议
Nikon CFI60 基本参考
理论换算基准：Tube lens 200 mm
Parfocal distance：60 mm
长 WD 价值：兼容厚底容器、降低碰样风险、提升 3D 样品可达深度。
命名理解
LWD：Long Working Distance
ELWD：Extra-Long Working Distance
ADM / ADL：Apodized phase contrast 变体
NAMC：Advanced Modulation Contrast
WI：Water Immersion
EPI P：Episcopic / Polarizing 方向
理论参数说明
理论焦距：f ≈ 200 / 倍率
理论分辨率：R ≈ 0.61×550nm / NA
理论焦深：DOF ≈ 550nm / (2×NA²)
以上仅用于横向比较，不等同官方成像保证值。
网站分类建议
一级：Nikon 物镜
二级：Nikon 长工作距离物镜
三级：LWD / ELWD / 长工作距离 Plan Apo / 反射偏光长 WD
数据来源说明
Nikon Objective Selector
S Plan Fluor LWD / ELWD 官方系列页
Objectives Brochure 与 2025 brochure 快照
Plan Apo LWD Lambda S 发布新闻
ECLIPSE Ci POL / LV100N POL LED 官方页面与应用说明
快速选型对比
根据容器厚度、样品类型、NA 与观察方式快速定位系列
| 系列 | 核心定位 | 倍率覆盖 | 典型 WD | 最高 NA | 观察方式 | 优先场景 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| S Plan Fluor LWD | 厚塑料底友好 | 20X | 2.30–1.30 mm | 0.70 | BF / DIC / PH / FL | 厚底培养皿、多孔板、药筛、高内涵 |
| S Plan Fluor ELWD | 超长 WD 生物型 | 20X–60X | 8.20–1.80 mm | 0.70 | BF / DIC / PH / NAMC / FL | 厚容器、活细胞、低光晕相差、微注射 |
| Plan Apo LWD Lambda S | 高 NA 水浸 3D | 20X–40X | 0.93 / 0.63 mm | 1.15 | BF / DIC / FL / 多光子 | 类器官、球体、3D 生物样品、共聚焦 |
| TU Plan Fluor EPI P | 反射偏光长 WD | 5X–50X | 23.50–1.00 mm | 0.80 | EPI / POL | 金相、晶圆、反射观察、大样品材料表面 |
长工作距离并不一定等于最高分辨率。实际选型时建议先确定样品容器厚度、最高点安全距离、是否需要相差 / NAMC / 反射偏光，再决定倍率与系列。
